IC 縮小術！林本堅院士談光學微影如何把 IC 愈變愈小。

線寬與週距（Pitch）的示意圖，週距為線寬加上線與線之間的間距，可表示金屬線週期性排列的尺度大小。 圖｜研之有物

光線通過透鏡系統聚焦成像示意圖，n 為介質折射率，θ 為鏡頭聚焦至成像面的角度。 圖｜研之有物（資料來源｜111 年中央研究院知識饗宴）

微影機的鏡頭設計相當複雜，林本堅提到目前業界盡可能提升 sinθ 值到 0.93。圖中的 NA = n．sinθ = 0.9，空氣折射率 n 約為 1，故此鏡頭 sinθ 水準為 0.9。鏡頭模組實際使用時會立起來垂直地面（如下圖）。 圖｜研之有物（資料來源｜111 年中央研究院知識饗宴）

林本堅院士於演講中強調，微影機的鏡頭模組非常巨大，而且重得必須使用起重機才能搬運。 圖｜111 年中央研究院知識饗宴

上圖為波長 193 奈米光源所使用的曝光鏡頭模組，從示意圖可看到在透鏡組合之間加入了反射鏡。 圖｜研之有物（資料來源｜Proceedings of the IEEE）

乾式微影光學系統與浸潤式微影光學系統的差異。 圖｜研之有物（資料來源｜111 年中央研究院知識饗宴）

關於半導體人才的培養，林本堅院士期許學生先專精在一個領域，並對其他領域有一定程度瞭解，促進團隊合作、解決問題，進而發現新的技術。 圖｜林本堅